照片拍摄：SS东京

该建筑是具备进行半导体元件制造工艺技术的高度化、微细加工技术的开发、以及利用化合物半导体进行光器件等的研究开发的洁净室等设备的纳诺技术研究设施。
该设施充分考虑已建成的大规模研究设施群的周围环境，对特殊研究实验室构成的设施，通过设置设备空间，创建适合研究者居住环境的舒适环境。
有关特殊实验设备环境，则充分考虑了灵活应对未来各种研究的措施，构筑整体环境。