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産業技術総合研究所ナノ材料実験棟

  • photo:産業技術総合研究所ナノ材料実験棟
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写真撮影 エスエス東京支店

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建築物概要

竣工
2003年3月
主要用途
研究所
所在地
茨城県つくば市
敷地面積
988,131.00m2
延べ面積
9,955.00m2
建築面積
2,504.00m2
構造規模
SRC造 地上4階

特徴

半導体素子製造プロセス技術の高度化・微細加工技術の開発、また化合物半導体を利用した光デバイス等の研究開発を行うクリーンルーム等の設備を備えたナノ技術の研究施設です。
既に完成されている大規模研究施設群の周辺環境に十分に配慮し、特殊な研究実験室からなる施設に対し、設備ヴォイドを設ける等、研究者の居住環境として快適な環境を創ることを目指しています。
特殊な実験設備環境において、将来に渡りフレキシブルに研究に対応できる環境作りに十分配慮した計画となっています。

受賞履歴

掲載雑誌

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